要避免樣品在掃描電鏡（SEM）中受到輻射損傷，可以采取以下措施：

使用適當的工作距離：將電子束與樣品之間的工作距離保持在較遠的范圍內。增加工作距離可以減少電子束對樣品的輻射。

降低電子束電流：減少電子束的電流，以降低能量輸入，從而減少樣品的輻射損傷。

使用低電子束能量：選擇較低的電子束能量，通常在1-5千伏之間，以減少電子束的穿透能力。

使用樣品導電涂層：在非導電樣品上涂覆薄薄的導電涂層，如金屬薄膜，以提高導電性，減少充電效應。

控制掃描速度：降低掃描速度可以減少每個像素點的電子束暴露時間。

適當的冷卻：對于易受熱損傷的樣品，可以考慮在SEM操作期間使用樣品冷卻系統，以減小樣品溫度。

限制分析時間：在分析中盡量減少電子束的暴露時間，避免過長時間的掃描。

使用低真空模式：在SEM中使用低真空模式可以減少電子束對樣品的輻射損傷，因為低真空條件下電子與氣體分子相互作用較少。

優化SEM參數：根據具體的樣品和分析需求，優化SEM參數，以降低電子束對樣品的影響。

進行先行實驗：在正式實驗之前進行一些試驗性的SEM操作，以確定合適的參數，以減少樣品的損傷。

定期檢查樣品：定期檢查樣品，確保沒有明顯的損傷或變化。

ZEM20臺式掃描電鏡

以上就是澤攸科技小編分享的如何避免樣品在掃描電鏡中受到輻射損傷。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢