如何進行掃描電鏡的標定?
日期:2025-03-26
掃描電鏡(SEM)的標定(Calibration)主要用于確保測量的準確性,包括尺寸測量、放大倍率、電子束偏轉等。標定通常涉及以下幾個關鍵步驟:
1. 放大倍率和尺寸標定
目的:確保 SEM 顯示的尺寸和真實物理尺寸一致。
方法:
使用標準樣品(Calibration Standard),如硅光柵、金剛石網格、納米刻線標樣等。
選擇已知尺寸的參考結構(如 100 nm 間距的光柵)。
在不同放大倍率下拍攝圖像,并使用圖像測量工具對比實際尺寸與標定尺寸。
調整 SEM 軟件中的校準因子,使測量值與真實尺寸匹配。
2. 電子束偏轉和掃描畸變校正
目的:減少束斑漂移、形變,提高掃描精度。
方法:
觀察規則對稱的標準樣品,如方形網格或周期性結構,檢查是否有失真。
調整 SEM 的掃描系統,使圖像中的幾何形狀準確無誤。
可能需要調整電子束的掃描校正參數。
3. 束流和工作距離標定
目的:優化束流和焦距,提高分辨率和深度對比。
方法:
選擇高分辨率標準樣品,如金顆?;蛱技{米管。
逐步調整 束流(Beam Current),觀察對比度與清晰度。
調整 工作距離(Working Distance),確保成像效果。
4. 電子束聚焦和像散校正
目的:消除像散,提高成像清晰度。
方法:
逐步調整 消像散(Stigmator),優化電子束形狀。
觀察高放大倍率下的金顆粒樣品,直到邊緣清晰、無拖尾。
5. 能譜(EDS)標定(如適用)
目的:確保元素分析的能量精度。
方法:
使用已知成分的標準樣品,如純銅(Cu)、硅(Si)等進行 EDS 采集。
對比測得的峰位與已知元素的 X 射線能量,并調整光譜校準。
6. 透射(STEM)模式標定(如適用)
目的:用于納米尺度樣品的透射成像校準。
方法:
使用納米尺度標準樣品(如金屬薄膜),確保透射模式下放大倍率和尺寸精準。
7. 記錄標定數據并定期維護
記錄所有校準參數,定期復查并調整。
避免環境變化(溫度、振動、磁場等)影響 SEM 的穩定性。
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作者:澤攸科技